标准详情
| 标准名称： | 硅片表面光泽度的测试方法 |
|---|---|
| 标准号： | GB/T 42789-2023 |
| 中国标准分类号： | H21 |
| 发布日期： | 2023-08-06 |
| 国际标准分类号： | 77.040 |
| 实施日期： | 2024-03-01 |
| 技术归口： | 全国半导体设备和材料标准化技术委员会 |
| 代替标准： | |
| 批准发布部门： | 国家标准化管理委员会 |
| 标准分类： | 冶金金属材料试验 |
内容简介
国家标准《硅片表面光泽度的测试方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。本文件描述了采用光反射法以20°、60°或85°几何条件测试硅片表面光泽度的方法。本文件适用于硅腐蚀片、抛光片、外延片表面光泽度的测试，不适用于表面有图形的硅片的测试。
起草单位
浙江金瑞泓科技股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、山东有研半导体材料有限公司、麦斯克电子材料股份有限公司、浙江旭盛电子有限公司、金瑞泓科技（衢州）有限公司、浙江海纳半导体股份有限公司、天津中环领先材料技术有限公司、上海合晶硅材料股份有限公司、广东金湾高景太阳能科技有限公司、巢湖学院、
起草人
梁兴勃、李琴、潘金平、李素青、边永智、庄智慧、韩云霄、徐志群、王可胜、张海英、林松青、张雪囡、由佰玲、沈辉辉、焦二强、付明全、詹玉峰、
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